傳臺積電已采購35臺EUV光刻機，占ASML過班產量
對于主攻代工芯片的臺積電來說，擁有越多先進的光刻機，優(yōu)勢就越大，當然訂單也就越多。
根據(jù)臺灣地區(qū)媒體的消息，臺積電目前已采購35臺EUV 設備，占ASML過半產量，2021年底采購總量將超過50臺。
之前就消息稱，臺積電已經下單訂購了至少13臺ASML的Twinscan NXE EUV光刻機，將會在2021年全年交付，明年臺積電實際需求的數(shù)量可能是高達16到17臺EUV光刻機。
相較之下，三星EUV設備采購量目前不到20臺。
根據(jù)ASML的官方數(shù)據(jù)，2018年至2019年，每月產能約4.5萬片晶圓（WSPM），一個EUV層需要一臺Twinscan NXE光刻機。隨著工具生產效率的提高，WSPM的數(shù)量也在增長。如果要為一個準備使用N3或更先進節(jié)點制造工藝的GigaFab（產能高于每月10萬片）配備設備，臺積電在該晶圓廠至少需要40臺EUV光刻設備。
未來幾年全球對EUV光刻機的需求只會增加，但從目前的情況來看，在未來一段時間內，臺積電仍將是這些光刻設備的主要采購者，三星和Intel將緊隨其后。
責編AJX
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