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中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判

中國(guó)半導(dǎo)體論壇 ? 來(lái)源:新浪科技 ? 作者:新浪科技 ? 2020-12-29 16:20 ? 次閱讀
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12月18日,據(jù)新浪科技報(bào)道,業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。

報(bào)道稱,中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設(shè)備,盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存顧慮。

但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。

本周二晚,中芯國(guó)際發(fā)布公告稱,蔣尚義獲委任為董事會(huì)副董事長(zhǎng)、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會(huì)成員,自2020年12月15日起生效。

EUV光刻(即極紫外光刻)利用波長(zhǎng)非常短的光,在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu),構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式***相比,EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。

報(bào)道稱,中芯國(guó)際計(jì)劃利用EUV***器,來(lái)生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。

近日有媒體報(bào)道稱,中芯國(guó)際已經(jīng)從20nm工藝制程,一直攻克到了3nm工藝制程,唯一缺的就是EUV***。有了EUV***,中芯國(guó)際也能進(jìn)行3nm芯片的量產(chǎn)。

昨日美國(guó)股市收盤(pán)時(shí),阿斯麥股價(jià)收于477.30美元,上漲1.2%。今日,中芯國(guó)際股價(jià)收于55.02元,下滑1.77%。

責(zé)任編輯:lq

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原文標(biāo)題:重磅!傳中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻機(jī)與ASML談判!

文章出處:【微信號(hào):CSF211ic,微信公眾號(hào):中國(guó)半導(dǎo)體論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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