如果真空紫外激光可以聚焦成一個小束點，將可用于研究介觀材料和結構，并使制造納米物體具有更加的精度。 為了實現(xiàn)這一目標，中國科學家開發(fā)出一種177納米的VUV激光器，可以在長焦距處獲得亞微米焦點。該系統(tǒng)可以重新配置用于低成本的角度分辨光電發(fā)射光譜，并可能推動凝聚態(tài)物理研究。

在《光科學與應用》(Light Science & Applications)發(fā)表的一項研究成果顯示，研究人員利用無球像差的帶板開發(fā)了一種177 nm VUV激光掃描光電發(fā)射顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)在長焦距(~45 mm)下具有<1μm的焦斑。 ?

穿過KBBF晶體（上）和平面透鏡（中）的激光束圖示
基于這種顯微鏡，他們還建立了一個離軸熒光檢測平臺，在揭示材料的細微特征方面表現(xiàn)出優(yōu)于傳統(tǒng)激光系統(tǒng)的能力。 與目前用于ARPES的具有空間分辨率的DUV激光源相比，177 nm VUV激光源可以幫助ARPES測量覆蓋更大的動量空間，具有更好的能量分辨率。 該VUV激光系統(tǒng)具有超長焦距(~45 mm)、亞微米空間分辨率(~760 nm)、超高能量分辨率(~0.3 meV)和超高亮度(~355 MWm?2)。可直接應用于光電發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)、角度分辨光電子能譜儀(ARPES)、深紫外激光拉曼能譜儀等科研儀器。 目前，該系統(tǒng)已與上海理工大學的ARPES連接，揭示了各種新型量子材料的精細能帶特征，如準一維拓撲超導體TaSe3、磁性拓撲絕緣體(MnBi2Te4)(Bi2Te3)m族等。

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