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自戈登·摩爾于1965年提出關(guān)于每平方英寸集成電路上的晶體管數(shù)量翻倍的著名論斷以來(lái)，半導(dǎo)體行業(yè)似乎一直都在不斷突破物理定律的掣肘，以便能跟上這一節(jié)奏。而光刻工藝行業(yè)尤為如此。圖1顯示了一份光刻因子k1的圖表，該因子與所繪臨界尺寸及透鏡系統(tǒng)的數(shù)值孔徑成正比，與系統(tǒng)中所用的光波波長(zhǎng)成反比。隨著晶圓上所刻尺寸的減小，k1因子急劇減小。k1因子越小，圖像質(zhì)量越差。當(dāng)k1因子指標(biāo)降至約0.6以下時(shí)，圖像質(zhì)量將變得很差，以致無(wú)法提供良品電路。如果我們?nèi)岳^續(xù)使用436nmg-line光刻設(shè)備，那么業(yè)內(nèi)將永遠(yuǎn)無(wú)法突破1um的特征尺寸。
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