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離子注入工藝原理介紹

旺材芯片 ? 來源:旺材芯片 ? 作者:旺材芯片 ? 2021-02-01 11:16 ? 次閱讀
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四十五所作為國內最大的濕化學設備供應商之一,其設備涵蓋了半導體制造幾乎所有的濕化學制程,包括:金屬刻蝕、深硅刻蝕、二氧化硅刻蝕、RCA清洗、酸洗、有機清洗、去膠、顯影、去蠟、制絨、高溫側腐、電鍍等。設備操作模式包括全自動、半自動和手動,能根據客戶的產能要求、自動化程度、工藝需求等定制最佳的配置方案。

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責任編輯:lq

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原文標題:PPT | 離子注入工藝原理介紹

文章出處:【微信號:wc_ysj,微信公眾號:旺材芯片】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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