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傳臺(tái)積電將下調(diào)資本支出至300億美元以下 為近三年低點(diǎn)

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-10-17 11:42 ? 次閱讀
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臺(tái)積電將于10月19日舉行第三季度法國(guó)說(shuō)明會(huì)。據(jù)市場(chǎng)消息,由于受到英特爾的3納米外包延期和美國(guó)新工廠的4納米量產(chǎn)日程推遲的影響,tsmc今年將把資本支出降低到近3年的最低值300億美元以下。

在今年7月的法律中,臺(tái)積電財(cái)務(wù)長(zhǎng)黃仁昭表示,大學(xué)每年的資本支出計(jì)劃都考慮到顧客今后數(shù)年間的需求及增長(zhǎng),指出了以下幾點(diǎn)。制定短期應(yīng)對(duì)不確定、對(duì)人適當(dāng)緊縮資本支出計(jì)劃,今年資本支出在320億至360億美元之間。其中,先進(jìn)工程技術(shù)占總額的70-80%,成熟特殊技術(shù)占10-20%,其余部分安排高級(jí)密封包裝,試驗(yàn)測(cè)試及其他項(xiàng)目。

對(duì)于2024年的資本支出計(jì)劃,黃仁昭表示:“現(xiàn)在說(shuō)還為時(shí)過(guò)早。但臺(tái)積電的資本支出規(guī)模從過(guò)去的100億美元增加到去年的360億美元,正在迅速增加。”今后幾年是以前資本支出的收收期,臺(tái)積電前期今后幾年資本支出增長(zhǎng)幅度趨緩,規(guī)模趨于平穩(wěn)。

半導(dǎo)體設(shè)備大企業(yè)asml曾于今年7月表示,部分尖端工程用極紫外線(euv)設(shè)備的出庫(kù)由于顧客工廠的設(shè)置被推遲,出現(xiàn)了順延狀況。業(yè)界認(rèn)為,當(dāng)時(shí)asml所說(shuō)的“工廠設(shè)置延遲”的顧客是臺(tái)積電,而且由于極紫外線設(shè)備的原地推遲,臺(tái)積電今年的資本支出同步化遲緩。

據(jù)了解,臺(tái)積電的資本支出在2021年為300億美元,2022年為363億美元,如果今年的資本支出下降到300億美元以下,預(yù)計(jì)將創(chuàng)下3年以來(lái)的最低值。

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