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第二代SiC碳化硅MOSFET關(guān)斷損耗Eoff

國(guó)芯思辰(深圳)科技有限公司 ? 2024-06-20 09:53 ? 次閱讀
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國(guó)產(chǎn)第二代SiC碳化硅MOSFET 1200V系列擊穿電壓BV值實(shí)測(cè)在1700V左右,高于市面主流競(jìng)品,擊穿電壓BV設(shè)計(jì)余量可以抵御碳化硅襯底外延材料及晶圓流片制程的擺動(dòng),能夠確保大批量制造時(shí)的器件可靠性,這是第二代SiC碳化硅MOSFET布袋除塵器關(guān)鍵的品質(zhì)。

第二代SiC碳化硅MOSFET雪崩耐量裕量相對(duì)較高,也增強(qiáng)了在電力電子系統(tǒng)應(yīng)用中的可靠性。同時(shí),SiC碳化硅MOSFET反向傳輸電容Crss在市面主流競(jìng)品中是比較小的,帶來(lái)關(guān)斷損耗Eoff也是市面主流產(chǎn)品中非常出色的,優(yōu)于部分海外競(jìng)品,特別適用于LLC應(yīng)用,同規(guī)格較小的Crss帶來(lái)出色的開(kāi)關(guān)性能。

BTD25350功能框圖.png

Ciss:輸入電容(Ciss=Cgd+Cgs) ?柵極-漏極和柵極-源極電容之和:它影響延遲時(shí)間;Ciss越大,延遲時(shí)間越長(zhǎng)。第二代SiC碳化硅MOSFET 優(yōu)于主流競(jìng)品。

Crss:反向傳輸電容(Crss=Cgd) ?柵極-漏極電容:Crss越小,漏極電流上升特性越好,這有利于MOSFET的損耗,在開(kāi)關(guān)過(guò)程中對(duì)切換時(shí)間起決定作用,高速驅(qū)動(dòng)需要低Crss。

Coss:輸出電容(Coss=Cgd+Cds)?柵極-漏極和漏極-源極電容之和:它影響關(guān)斷特性和輕載時(shí)的損耗。如果Coss較大,關(guān)斷dv/dt減小,這有利于噪聲。但輕載時(shí)的損耗增加。

國(guó)產(chǎn)第二代碳化硅MOSFET器件主要特色:

? 比導(dǎo)通電阻降低40%左右,Qg降低了60%左右,開(kāi)關(guān)損耗降低了約30%

? 降低Coss參數(shù),更適合軟開(kāi)關(guān)

? 降低Crss,及提高Ciss/Crss比值,降低器件在串?dāng)_行為下誤導(dǎo)通風(fēng)險(xiǎn)

? 最大工作結(jié)溫175℃? HTRB、 HTGB+、 HTGB-可靠性按結(jié)溫Tj=175℃通過(guò)測(cè)試

? 優(yōu)化柵氧工藝,提高可靠性,高可靠性鈍化工藝,優(yōu)化終端環(huán)設(shè)計(jì),降低高溫漏電流

? AEC-Q101

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