6月4-6日，中國(guó)（深圳）國(guó)際半導(dǎo)體展覽會(huì)將在深圳國(guó)際會(huì)展中心舉行。廣明源（展位號(hào)：14G22）將攜172nm等紫外線系列光源、設(shè)備與模組亮相，重點(diǎn)展示172nm準(zhǔn)分子光在晶圓光清洗、半導(dǎo)體基材表面活化及超純水TOC降解等工藝環(huán)節(jié)的應(yīng)用解決方案。

誠(chéng)邀行業(yè)伙伴蒞臨交流，共探172nm等紫外光在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用，攜手開啟合作新篇章。

觀展指南

2025中國(guó)（深圳）國(guó)際半導(dǎo)體展覽會(huì)

時(shí)間：2025年6月4-6日

地點(diǎn)：深圳國(guó)際會(huì)展中心14號(hào)館

展位號(hào)：14G22

172nm準(zhǔn)分子光創(chuàng)新應(yīng)用

助力半導(dǎo)體制造業(yè)高質(zhì)效升級(jí)

1晶圓/掩膜版光清洗

功能：高效去除各類微觀有機(jī)污染物，實(shí)現(xiàn)超凈表面。

優(yōu)勢(shì)：無化學(xué)殘留、低溫?zé)o損傷、原子級(jí)潔凈度。

應(yīng)用：晶圓、光罩、掩膜版、顯示屏、PET、PCB 等的表面有機(jī)污染物清潔、封裝前預(yù)處理、光刻膠去除。

應(yīng)用效果

172nm清潔納米壓印模具，提高潔凈度。

2晶圓鍵合改性

功能：可快速精準(zhǔn)調(diào)節(jié)表面親水性以及粘附性能。

優(yōu)勢(shì)：無熱效應(yīng)、快速處理、無化學(xué)殘留。

應(yīng)用：薄膜沉積前處理、MEMS封裝、3D封裝、晶圓鍵合、倒裝芯片鍵合、引線鍵合等高精度芯片制造。

應(yīng)用效果

照射后，親水性提高，接觸角明顯變小。

3超純水TOC降解

功能：高效降解超純水中的總有機(jī)碳（TOC），潔凈度可達(dá)ppb級(jí)。

優(yōu)勢(shì)：無化學(xué)添加、在線降解、高效穩(wěn)定。

應(yīng)用：半導(dǎo)體晶圓制程、顯示面板生產(chǎn)的超純水系統(tǒng)。

技術(shù)原理

172nm紫外光可促使水體生成自由基，

把有機(jī)物快速氧化為CO?和H?O。

誠(chéng)邀蒞臨，探討行業(yè)新機(jī)遇

深耕光科技應(yīng)用研發(fā)與制造20多年，廣明源專注于172nm準(zhǔn)分子光源在半導(dǎo)體制造工藝中的創(chuàng)新應(yīng)用，持續(xù)為行業(yè)提供高效、可靠、高性價(jià)比的技術(shù)解決方案。

依托專業(yè)的流水線設(shè)備設(shè)計(jì)與定制能力，公司能夠根據(jù)客戶需求，提供半導(dǎo)體等高端制造制程所需的核心光源部件、模組及設(shè)備，覆蓋從實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證到大規(guī)模量產(chǎn)的全流程解決方案，滿足不同階段的生產(chǎn)需求。同時(shí)，依托自主172nm光源技術(shù)，助力產(chǎn)業(yè)鏈補(bǔ)鏈強(qiáng)鏈，提升國(guó)產(chǎn)化替代能力，保障供應(yīng)鏈安全與產(chǎn)業(yè)體系穩(wěn)定。

本次展會(huì)，我們期待與您面對(duì)面交流，探討172nm準(zhǔn)分子光在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域不同工藝環(huán)節(jié)中的技術(shù)細(xì)節(jié)與應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，分享行業(yè)洞見，助力半導(dǎo)體制造技術(shù)持續(xù)優(yōu)化升級(jí)。