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功率半導(dǎo)體熱設(shè)計是實現(xiàn)IGBT、碳化硅SiC高功率密度的基礎(chǔ),只有掌握功率半導(dǎo)體的熱設(shè)計基礎(chǔ)知識,才能完成精確熱設(shè)計,提高功率器件的利用率,降低系統(tǒng)成本,并保證系統(tǒng)的可靠性。
一、功率半導(dǎo)體熱阻的概述
1、熱阻定義
功率半導(dǎo)的熱阻,英文全稱:Thermal Resistance,簡稱:Rth。它是衡量功率半導(dǎo)體器件(如 IGBT、MOSFET、二極管等)散熱能力的核心熱性能參數(shù),定義為:器件在穩(wěn)定熱傳導(dǎo)狀態(tài)下,單位熱流量(功率損耗)所引起的兩端溫度差,本質(zhì)反映熱量從器件發(fā)熱核心(如芯片結(jié)區(qū))傳遞到散熱終點(如外殼、散熱器或環(huán)境)過程中受到的阻礙程度。
熱阻(Rθ)定義為傳熱過程中溫度差與熱流量的比值,公式為:

其中:
Rθ:熱阻(單位:℃/W 或 K/W,兩者數(shù)值等價,因溫度差單位一致);
ΔT:熱傳導(dǎo)路徑兩端的溫度差(如芯片結(jié)溫 Tj與外殼溫度 Tc的差值 Tj?Tc);
P:為熱流量,熱阻與導(dǎo)熱系數(shù)成反比,與材料厚度成正比;
另外,要想更好地理解熱阻(Rth),還可通過類比電學(xué)中的歐姆定律能更好地理解熱阻。在電學(xué)中,電壓差驅(qū)動電流,電阻阻礙電流;在熱學(xué)中,溫差驅(qū)動熱流,熱阻阻礙熱流。電流為電荷的流動速率,熱功率為熱量的流動速率。
2、功率半導(dǎo)體的散熱
功率半導(dǎo)體器件在開通和關(guān)斷過程中和導(dǎo)通電流時會產(chǎn)生損耗,損失的能量會轉(zhuǎn)化為熱能,表現(xiàn)為半導(dǎo)體器件發(fā)熱,器件的發(fā)熱會造成器件各點溫度的升高。半導(dǎo)體器件的溫度升高,取決于產(chǎn)生熱量多少(損耗)和散熱效率(散熱通路的熱阻)。

IGBT模塊的風(fēng)冷散熱是典型的散熱系統(tǒng),同時包含了散熱的形式三種:熱傳導(dǎo)、熱輻射和熱對流。
3、功率半導(dǎo)體的熱傳導(dǎo)
熱傳導(dǎo)是指固體或液體之間因為溫度差而產(chǎn)生熱量傳遞或擴(kuò)散的現(xiàn)象。熱傳導(dǎo)的特性可以類比為電氣工程中的歐姆定律,如圖所示。熱能工程中的熱源就像電氣工程中的電源,熱能工程中的受熱體就像是電氣工程中的負(fù)載,電氣工程有電阻電容元件,熱能工程也有類似屬性的元件,稱為熱阻和熱容。

所以,熱阻(Rth)是一個在熱傳導(dǎo)中至關(guān)重要的概念,它描述了物質(zhì)對熱傳導(dǎo)的阻力,為傳熱過程中溫度差與熱流量比值。這一參數(shù)在電子元器件設(shè)計、散熱方案設(shè)計等多個領(lǐng)域都扮演著重要角色。

Rth=熱阻
P(Pth,C)=功率(熱流量)
ΔT=溫差
這個定義,就與電路中的歐姆定律一致:Rel. = U/I

不同介質(zhì)(固體、液體或氣體)導(dǎo)熱能力不同,以熱的形式傳輸熱能的能力定義為導(dǎo)熱系數(shù)λ。因為導(dǎo)熱系數(shù)是介質(zhì)的特性,所以某種材料的導(dǎo)熱系數(shù)可以看作是一個常數(shù)。導(dǎo)熱系數(shù)又稱熱導(dǎo)率,單位是W/(m·K)。下表給出了一些材料的λ值。

二、功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)的分類
1、結(jié)殼熱阻(Rth(j-c))
指芯片的結(jié)(熱源)到外殼之間的熱阻,是功率半導(dǎo)體器件規(guī)格書中常標(biāo)注的參數(shù)之一,反映了熱量從芯片結(jié)區(qū)傳導(dǎo)到外殼的難易程度。
2、結(jié)環(huán)熱阻(Rth(j-a))
指芯片結(jié)到周圍環(huán)境空氣的熱阻,它綜合考慮了從結(jié)到外殼,再從外殼到環(huán)境空氣的整個熱傳遞路徑的阻力。
3、其他熱阻(Rth)
還有結(jié)到電路板的熱阻(Rth(j-b))等,用于描述芯片結(jié)與不同位置之間的熱傳遞特性。

三、功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)的導(dǎo)熱系數(shù)
熱阻與導(dǎo)熱介質(zhì)的橫截面積A成反比,與厚度d成正比,其單位是K/W:
Rth = d/λA
金屬鋁和銅有很好的導(dǎo)熱性,常用于制作功率半導(dǎo)體的散熱器,但再好的導(dǎo)體也會引入熱阻,而且厚度越大,熱阻越高。
有了熱阻和導(dǎo)熱系數(shù)的概念,就可以與產(chǎn)品聯(lián)系起來了:

熱阻(Rth)是由材料導(dǎo)熱系數(shù),厚度,面積決定的,一個實際帶銅基板的IGBT功率模塊的熱阻分布如下圖所示,芯片焊料導(dǎo)熱性并不好,導(dǎo)熱系數(shù)30W/(m·K)左右,但很薄,厚度往往只有0.1mm,所以在功率模塊中熱阻只占4%。而DCB中的陶瓷導(dǎo)熱系數(shù)25 W/(m·K),與焊料差得不多,但厚度有0.38mm,幾乎是焊接層的4倍,所以熱阻占比高達(dá)28%。

我們在定義模塊殼到散熱器的熱阻(Rth)時,假設(shè)導(dǎo)熱硅脂的導(dǎo)熱系數(shù)是1W/(m·K),厚度為30-100um,在芯片的散熱通路中,其占比高達(dá)37%,是最大的部分。所以用更好的導(dǎo)熱材料緩解散熱瓶頸,提高功率密度的重要舉措,這為什么英飛凌提供預(yù)涂導(dǎo)熱材料的模塊。

同樣我們也可以仿真分析一下,芯片厚度對熱阻的影響。
為了簡化問題,我們用采用擴(kuò)散焊的單管為例,其結(jié)構(gòu)簡單。由于采用擴(kuò)散焊,熱阻主要由芯片和銅框架構(gòu)成,仿真條件:假設(shè)硅芯片的面積5.1mm2 ,硅的芯片厚度分別為350um和110um,芯片損耗 170W。

可以直觀地看清硅導(dǎo)熱性不是特別好,相同條件下,350um的芯片要比110um芯片溫度高15度,原因是芯片的厚度造成的熱阻增大。
但器件的耐壓與漂移區(qū)的長度和電阻率有關(guān),太薄的晶圓意味著更低的耐壓,太厚漂移區(qū)漂移區(qū)電阻也更大,熱阻也增加,英飛凌開發(fā)IGBT薄晶圓技術(shù)就是一種完美的設(shè)計。
功率開關(guān)器件的耐壓與其漂移區(qū)的長度和電阻率有關(guān),而MOSFET是單極性功率開關(guān)器件,其通態(tài)電阻又直接決定于漂移區(qū)的長度和電阻率,與其制造材料臨界擊穿電場強度的立方成反比。因為4H-SiC有10倍于Si的臨界擊穿電場強度,因此基于SiC的功率器件允許使用更薄的漂移區(qū)來維持更高的阻斷電壓,從而顯著降低了正向壓降以及導(dǎo)通損耗,同時減小熱阻(Rth)。
做一個paper design例子,如果要獲得5000V的耐壓,使用摻雜為2.5*1013/cm3的襯底材料,Si基功率器件需要漂移層厚度0.5mm,單位面積電阻為10Ωcm2;SiC MOSFET使用摻雜為2.0*1015/cm3的漂移層,需要的厚度僅有0.05mm,單位面積電阻僅為0.02Ωcm2。

同時碳化硅的導(dǎo)熱系數(shù)是490W/(m·K),所以碳化硅芯片可以實現(xiàn)很高的功率密度,就是說,芯片面積很小,也可以保證芯片的散熱。
SiC的禁帶寬度3.23ev,相應(yīng)的本征溫度可高達(dá)800攝氏度。如果能夠突破材料及封裝的溫度瓶頸,則功率器件的工作溫度將會提升到一個全新的高度。

四、功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)的影響因素
不知道大家在做功率半導(dǎo)體封裝熱設(shè)計的過程中有沒有思考過一個問題,就是封裝熱阻到底由什么決定?其影響因素有哪些?舉個直觀的例子,就是同樣一個模塊,我里面放一顆芯片,和放多顆芯片,測出來的封裝熱阻會是一樣的嗎?下面,來說一下我對這個問題的認(rèn)識。
下面這幅圖給的是功率模塊典型結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線圖。相信做封裝的都很熟悉,橫坐標(biāo)對應(yīng)熱阻,縱坐標(biāo)對應(yīng)熱容,曲線對應(yīng)的是由芯片至外部環(huán)境的熱阻抗分布情況,根據(jù)曲線斜率變化情況可以將其與對應(yīng)散熱路徑材料進(jìn)行匹配。

因為結(jié)構(gòu)曲線是有明確物理意義的,每層材料對應(yīng)一個熱阻抗,因此,最直觀的認(rèn)知就是每一種封裝對應(yīng)的結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線是唯一的。
但是,在實際封裝設(shè)計過程中,我發(fā)現(xiàn)了一個與之“相矛盾”的點,就是上面提到的,同樣一個模塊,我里面放一顆芯片,和放多顆芯片,測出來的封裝熱阻會是一樣的嗎?
因為按照封裝熱阻定義公式:封裝結(jié)-殼/流熱阻等于=芯片結(jié)溫減去殼體/流體溫度再除以總的發(fā)熱功耗。

這樣就會出現(xiàn)一個問題,同樣一個封裝內(nèi)部,我里面放一顆芯片和放兩顆芯片,測出來的芯片溫升可能是一樣的,但是模塊的功耗卻增加了一倍,這樣得到的封裝熱阻也會差一倍。這兩種情況下我得到了兩個封裝熱阻,那怎么和熱阻抗曲線對應(yīng)起來呢?哪個是對的呢?明明是同樣一種封裝結(jié)構(gòu),不就和上面的每一種封裝對應(yīng)的結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線是唯一的相違背了嗎。
下面上結(jié)論:模塊熱阻不僅與封裝結(jié)構(gòu)、材料有關(guān),也與內(nèi)部芯片數(shù)量有關(guān)。同一種封裝結(jié)構(gòu),里面放一顆芯片或者多顆芯片,測出來的結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線也是不一樣的,即熱阻抗也是有區(qū)別的。
原因是什么呢,我一句話概述一下:不同芯片數(shù)量,實際利用的散熱路徑面積也是不一樣的。看看大家能不能get到這個點。

針對結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線,每一段熱阻抗曲線對應(yīng)散熱路徑每一層材料熱阻,改成更為對應(yīng)散熱路徑每一層材料實際使用的散熱面積熱阻,這樣每一層的熱阻抗就會有區(qū)別,就不難理解為什么對應(yīng)同一種封裝結(jié)構(gòu),其結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線也會不一樣。因此,即使同一種封裝結(jié)構(gòu),當(dāng)芯片數(shù)量不一樣(也包括芯片間距)或者芯片大小不一樣,測出來的熱阻抗曲線可能也會有區(qū)別。是唯一又不是唯一,唯一的是每個模塊對應(yīng)的結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線是唯一的,不唯一的是同一種封裝結(jié)構(gòu)對應(yīng)的結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線不一定是一樣的。
簡單來講:影響功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)的核心因素就是:器件本身特性、封裝工藝與材料和系統(tǒng)散熱設(shè)計三個方面。

五、功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)的重要性
1、影響器件可靠性
功率半導(dǎo)體工作時,電氣損耗(導(dǎo)通損耗與開關(guān)損耗)轉(zhuǎn)化為熱量集中在器件結(jié)區(qū),若熱量不能及時散發(fā),結(jié)溫會超限,嚴(yán)重影響器件可靠性。熱阻(Rth)越小,相同熱源功率下器件溫升越小,散熱能力越強。
2、指導(dǎo)熱設(shè)計
熱阻(Rth)是實現(xiàn)電氣損耗與熱管理分析互通的基礎(chǔ)指標(biāo),是功率半導(dǎo)體器件規(guī)格書中常標(biāo)注的參數(shù)之一。準(zhǔn)確掌握熱阻(Rth)指標(biāo),能為器件選型、散熱方案設(shè)計及其安全裕量評估提供關(guān)鍵依據(jù)。工程師可根據(jù)熱阻(Rth)數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)溫預(yù)測、熱設(shè)計驗證與壽命分析,及早識別潛在熱瓶頸,提升系統(tǒng)設(shè)計的可靠性與穩(wěn)定性。

六、功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)的測試方法
1、穩(wěn)態(tài)法
最基礎(chǔ)的測試方法,通過在器件上施加恒定功率,直到溫度達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)后,測量結(jié)溫和參考點溫度(如外殼或環(huán)境溫度),再按公式Rth=(Tj-Tref)/P計算熱阻。測試要求溫度達(dá)到熱平衡,熱流路徑穩(wěn)定,但測試時間長。參考標(biāo)準(zhǔn)有《JESD51 - 2》、《MIL - STD - 883 Method 1012.1》。
2、瞬態(tài)法
通過測量器件在施加功率變化時的溫度響應(yīng)來計算熱阻。該方法基于熱阻與熱容逐級累加生成累積結(jié)構(gòu)函數(shù),對累積結(jié)構(gòu)函數(shù)進(jìn)行微分得到微分結(jié)構(gòu)函數(shù),其峰值反映材料的邊界。

七、總結(jié)一下
功率半導(dǎo)體熱阻(Rth)作為表征器件熱傳遞阻礙程度的核心熱性能參數(shù),其本質(zhì)是熱量從芯片結(jié)區(qū)(發(fā)熱核心)向散熱終點傳導(dǎo)過程中,單位功率損耗所引發(fā)的溫度差量化體現(xiàn),是器件散熱能力的核心量化標(biāo)尺。
從器件本質(zhì)影響來看,它直接決定了結(jié)溫控制邊界 —— 熱阻(Rth)大小與結(jié)溫升高幅度正相關(guān),進(jìn)而從根本上左右器件工作穩(wěn)定性(避免熱失控導(dǎo)致的性能漂移)、使用壽命(結(jié)溫每升高 10℃壽命通常減半)及極限功耗承載能力(低熱阻器件可在更高功率密度下安全運行),是功率半導(dǎo)體核心性能的底層約束因素。
從全流程應(yīng)用價值來看,它貫穿功率半導(dǎo)體研發(fā)(材料選型、結(jié)構(gòu)設(shè)計的核心依據(jù))、封裝工藝(互聯(lián)方式、基板材料、封裝結(jié)構(gòu)優(yōu)化的關(guān)鍵導(dǎo)向)、系統(tǒng)應(yīng)用(器件選型匹配場景需求、散熱方案設(shè)計針對性突破瓶頸、可靠性評估量化落地)全鏈條,既是連接器件本身與系統(tǒng)散熱的關(guān)鍵橋梁,也是保障功率電子系統(tǒng)高效、穩(wěn)定、長壽命運行的核心指標(biāo)與決策依據(jù)。
參考資料
[1] JESD51-1:1995, Integrated Circuit ThermalMeasurement Method- Electrical Test Method
[2] JESD51-14:2010, Transient Dual InterfaceTest Methodfor the Measurement of the Thermal Resistance Junctionto Case ofSemiconductor Devices with Heat FlowThrough a Single Path
[3] MIL-STD-883E,METHOD 1012.1, ThermalCharacteristics, 4 November 1980
審核編輯 黃宇
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