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芯片 ESD 測(cè)試核心模型全解析|從基礎(chǔ)原理到波形特征

漢通達(dá) ? 2026-04-24 10:03 ? 次閱讀
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在芯片的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、測(cè)試全流程中,ESD(靜電放電)是無處不在的“隱形殺手”,瞬間的靜電沖擊可能直接導(dǎo)致芯片柵氧擊穿、金屬連線燒毀,最終引發(fā)失效。而 ESD 測(cè)試是驗(yàn)證芯片抗靜電能力的核心手段,其中芯片級(jí) ESD 測(cè)試的四大核心模型(HBM/MM/CDM/HMM)更是行業(yè)研發(fā)、量產(chǎn)的重要依據(jù)。

今天就帶大家系統(tǒng)梳理芯片級(jí) ESD 測(cè)試的主流模型,從模擬場(chǎng)景、等效電路到放電特征,一次性講清核心要點(diǎn),看懂芯片的“靜電防護(hù)考卷”!

人體模型(HBM):最常見的靜電失效場(chǎng)景

HBM 是芯片 ESD 測(cè)試中最基礎(chǔ)、最常用的模型,也是實(shí)際應(yīng)用中占比超 70% 的失效場(chǎng)景,核心模擬帶靜電的人體與芯片接觸時(shí)的放電過程。

核心原理

  • 充電階段:人體因摩擦、感應(yīng)帶上靜電荷,等效為高壓電源對(duì) 100pF 電容(Cesd)充電;
  • 放電階段:人體手指接觸芯片管腳形成對(duì)地通路,充滿電荷的電容通過 1.5kΩ 等效電阻(Resd)向待測(cè)芯片(DUT)放電。
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關(guān)鍵特征

  • 等效電路核心參數(shù):100pF 電容 + 1.5kΩ 串聯(lián)電阻;
  • 放電波形:上升沿較緩,約 10ns,無振蕩;
  • 峰值電流:約 1.33 A/kV,2kV 測(cè)試時(shí)峰值約 2.66A,一般不超過 5A;
  • 失效特點(diǎn):因人體寄生電阻限流,沖擊相對(duì)溫和,多損傷芯片 I/O 接口,對(duì)內(nèi)部核心電路影響較小。
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開關(guān)開始處于A狀態(tài), 電源對(duì)人體等效電容Cesd充電, 其目 的主要是模擬人體因?yàn)槟Σ粱蛘吒袘?yīng)帶上靜電荷的過程; 當(dāng)開關(guān)切換到B狀態(tài)時(shí),A階段充滿電荷等效電容通過人體等效電阻Resd對(duì)待測(cè)器件放電, 其目 的是模擬人體接觸到芯片管腳, 并產(chǎn)生對(duì)地通路而放電的過程。


機(jī)器模型(MM):產(chǎn)線設(shè)備的靜電沖擊

MM 模型針對(duì)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)設(shè)計(jì),模擬未做好靜電防護(hù)的自動(dòng)化設(shè)備機(jī)械臂、夾具、探針等)帶靜電后,接觸芯片管腳形成放電的過程。

核心原理

機(jī)器為金屬材質(zhì),內(nèi)阻極小,因此等效電路中無串聯(lián)限流電阻,僅通過 200pF 儲(chǔ)能電容向待測(cè)芯片直接放電,芯片其他管腳接地形成通路時(shí),靜電電荷快速轉(zhuǎn)移。

關(guān)鍵特征

  • 等效電路核心參數(shù):200pF 電容,串聯(lián)電阻 R=0Ω;
  • 放電波形:上電速度快,上升沿 6-8ns,因寄生電感影響,波形會(huì)呈現(xiàn)正負(fù)振蕩;
  • 峰值電流:同電壓下遠(yuǎn)高于 HBM,沖擊性更強(qiáng);
  • 行業(yè)現(xiàn)狀:因與實(shí)際失效場(chǎng)景關(guān)聯(lián)度降低,JEDEC 已逐步淘汰該模型,不再作為芯片 ESD 強(qiáng)制測(cè)試項(xiàng)。
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MM模型模擬的是金屬, 而金屬內(nèi)阻很小, 因此上電速度很快,通常為6-8ns。 由于內(nèi)阻較小, 同電壓下MM模型的峰值電流較高,同時(shí)因?yàn)榧纳姼?,MM的放電波形會(huì)呈現(xiàn)正負(fù)振蕩


組件充電模型(CDM):破壞性最強(qiáng)的芯片級(jí) ESD

CDM 是先進(jìn)工藝芯片(納米級(jí) / FinFet 工藝)最主要的 ESD 風(fēng)險(xiǎn),核心模擬芯片自身帶電后的放電過程,也是三種經(jīng)典模型中破壞性最強(qiáng)的一種。

核心原理

芯片在制造、測(cè)試、運(yùn)輸過程中,通過摩擦、接觸或感應(yīng)自身帶上靜電荷(而非外部物體帶電),當(dāng)芯片管腳接觸接地體時(shí),內(nèi)部大量靜電荷通過管腳快速流出,形成放電。其等效電路充電階段直接對(duì)芯片自身等效電容充電,放電回路的電阻、電感極小,電荷泄放速度極快。

關(guān)鍵特征

  • 放電波形:上升時(shí)間極短,僅 0.1-0.6ns,脈沖持續(xù)時(shí)間約 5ns,屬于“快脈沖、高峰值”波形;
  • 峰值電流:遠(yuǎn)高于 HBM/MM,瞬間大電流易直接擊穿芯片內(nèi)部柵氧、損壞核心邏輯 / 模擬模塊;
  • 工藝關(guān)聯(lián):隨著芯片工藝尺寸縮小,F(xiàn)inFet 工藝下電壓瞬態(tài)過沖問題加劇,CDM 引發(fā)的失效愈發(fā)突出,成為高端芯片 ESD 設(shè)計(jì)的重點(diǎn)關(guān)注對(duì)象。
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三種模型典型的放電波形圖, 從中可以得出HBM的波形峰值最低, 但持續(xù)時(shí)間長(zhǎng);MM波形會(huì)產(chǎn)生正負(fù)振蕩, 且峰值比HBM要高, 持續(xù)時(shí)間也較長(zhǎng);CDM波形的上升速度很快, 峰值很高且持續(xù)時(shí)間短。

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人體金屬放電模型(HMM):系統(tǒng)級(jí) ESD 的新模型

HMM 是業(yè)界新研發(fā)的 ESD 測(cè)試模型,彌補(bǔ)了傳統(tǒng)芯片級(jí)模型與實(shí)際系統(tǒng)應(yīng)用的差距,核心模擬帶靜電的人體通過金屬 / 機(jī)械部件(如數(shù)據(jù)線、外殼、設(shè)備接口)與芯片管腳接觸的放電過程,主要用于評(píng)價(jià)芯片在電子系統(tǒng)中的 ESD 魯棒性。

核心原理

充放電過程與傳統(tǒng)模型一致,但因引入了金屬部件,等效電路的寄生參數(shù)最多,包含寄生電感(L1/L2)、平板電容(Cb)、150pF 儲(chǔ)能電容及 330Ω 電阻,更貼近實(shí)際系統(tǒng)中的靜電傳輸場(chǎng)景。

關(guān)鍵特征

  • 等效電路:寄生參數(shù)豐富,更貼合系統(tǒng)級(jí)應(yīng)用實(shí)際;
  • 放電波形:上升時(shí)間約 0.7ns,介于 CDM 與 MM 之間,脈沖持續(xù)時(shí)間約 50ns;
  • 應(yīng)用場(chǎng)景:主要用于芯片在終端系統(tǒng)中的 ESD 性能驗(yàn)證,銜接芯片級(jí)與系統(tǒng)級(jí) ESD 測(cè)試。d080cd82-3f81-11f1-ab55-92fbcf53809c.png

充放電過程與之前模型一致, HMM模型的寄生參數(shù)為(L1,C1,L2) ,Cb為平板電容。 其放電波形上升時(shí)間很短, 約為0.7ns, 持續(xù)時(shí)間約為50ns。


四大模型放電波形大對(duì)比|一眼看懂核心差異

不同 ESD 模型的放電特征直接決定了其對(duì)芯片的損傷程度,核心差異集中在上升時(shí)間、峰值電流、持續(xù)時(shí)間、波形形態(tài)四個(gè)維度,經(jīng)典對(duì)比特征如下:

  • HBM:峰值最低,上升沿最緩(≈10ns),持續(xù)時(shí)間最長(zhǎng),波形無振蕩;
  • MM:峰值高于 HBM,上升沿 6-8ns,持續(xù)時(shí)間較長(zhǎng),波形因寄生電感呈正負(fù)振蕩;
  • CDM:上升最快(0.1-0.6ns),峰值最高,持續(xù)時(shí)間最短(≈5ns),快脈沖沖擊性最強(qiáng);
  • HMM:上升時(shí)間 0.7ns,峰值適中,持續(xù)時(shí)間約 50ns,寄生參數(shù)影響顯著,貼近系統(tǒng)實(shí)際。

簡(jiǎn)單總結(jié):CDM 看瞬態(tài)抗沖擊能力,HBM 看常規(guī)接觸防護(hù)能力,HMM 看系統(tǒng)應(yīng)用適配能力,而 MM 則因行業(yè)發(fā)展逐步退出主流測(cè)試體系。

文末小結(jié)

芯片級(jí) ESD 測(cè)試的四大模型,分別對(duì)應(yīng)了芯片從生產(chǎn)、測(cè)試到系統(tǒng)應(yīng)用的不同靜電失效場(chǎng)景,其核心設(shè)計(jì)邏輯均為模擬實(shí)際靜電產(chǎn)生、傳輸、放電的全過程,為芯片 ESD 防護(hù)設(shè)計(jì)提供量化的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)。

對(duì)于芯片設(shè)計(jì)而言,HBM 和 CDM 是現(xiàn)階段必須重點(diǎn)攻克的兩大模型,車規(guī)、工業(yè)級(jí)芯片還需兼顧系統(tǒng)級(jí)的 HMM 測(cè)試;而在實(shí)際應(yīng)用中,芯片的 ESD 等級(jí)并非越高越好,需結(jié)合應(yīng)用場(chǎng)景平衡防護(hù)能力、芯片面積、功耗三者關(guān)系,找到最優(yōu)解。

靜電防護(hù)是芯片的“基礎(chǔ)必修課”,看懂 ESD 測(cè)試模型,才能從源頭理解芯片的靜電防護(hù)設(shè)計(jì)邏輯,讓芯片在全生命周期中遠(yuǎn)離靜電失效風(fēng)險(xiǎn)!

文末互動(dòng)

你在芯片研發(fā) / 測(cè)試中,遇到過哪些典型的 ESD 失效問題?評(píng)論區(qū)一起交流~

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