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標(biāo)簽 > finfet
FinFET全稱叫鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管,是一種新的互補(bǔ)式金氧半導(dǎo)體晶體管。FinFET命名根據(jù)晶體管的形狀與魚(yú)鰭的相似性。這種設(shè)計(jì)可以改善電路控制并減少漏電流,縮短晶體管的閘長(zhǎng)。
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inFET 技術(shù)有幾個(gè)含義。最重要的是,硅鰭片的高度和寬度尺寸是由制造工藝決定的,而不是由電路設(shè)計(jì)者決定的。這意味著每個(gè)晶體管的寬度尺寸是由柵極多晶硅穿...
半導(dǎo)體前端工藝:金屬布線—為半導(dǎo)體注入生命的連接
生成接觸孔后,下一步就是連接導(dǎo)線。在半導(dǎo)體制程中,連接導(dǎo)線的過(guò)程與一般電線的生產(chǎn)過(guò)程非常相似,即先制作線的外皮。在一般的電路連接中,直接采用成品電線即可...
未來(lái)半導(dǎo)體制造需要怎樣的EDA工具 機(jī)器學(xué)習(xí)為EDA帶來(lái)什么改變
在20/22nm引入FinFET以后,先進(jìn)工藝變得越來(lái)越復(fù)雜。在接下來(lái)的發(fā)展中,實(shí)現(xiàn)“每?jī)赡陮⒕w管數(shù)量增加一倍,性能也提升一倍”變得越來(lái)越困難。摩爾定...
淺談鰭式場(chǎng)效晶體管( finFET)寄生提取的復(fù)雜性和不確定性
鰭式場(chǎng)效晶體管(簡(jiǎn)稱 finFET)的推出標(biāo)志著 CMOS 晶體管首次被看作是真正的三維器件。由于源漏區(qū)以及與其周圍連接的三維結(jié)構(gòu)方式(包括本地互連和接...
淺談半導(dǎo)體晶體管間距的縮放面積及連續(xù)節(jié)點(diǎn)的有效密度
翻譯自——newelectronics 摩爾定律已經(jīng)不能用了嗎?其實(shí)這取決于哪一方面。 斯坦福大學(xué)電氣工程教授Philip Wong與來(lái)自麻省理工學(xué)院、...
2021-01-25 標(biāo)簽:CMOS電路設(shè)計(jì)eda 4.2k 0
作者:泛林Nerissa Draeger博士 FinFET在22nm節(jié)點(diǎn)的首次商業(yè)化為晶體管——芯片“大腦”內(nèi)的微型開(kāi)關(guān)——制造帶來(lái)了顛覆性變革。與此前...
技術(shù)路線圖始終是雙向的,一半來(lái)自技術(shù)方面的進(jìn)步,另一半來(lái)自市場(chǎng)的需求。
FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)從平面晶體管到FinFET的演變是一種先進(jìn)的晶體管架構(gòu),旨在提高集成電路的性能和效率。它通過(guò)將傳統(tǒng)的平面晶體管轉(zhuǎn)換為三維...
一個(gè)復(fù)雜的處理器可能包含數(shù)億甚至數(shù)十(百)億個(gè)晶體管,這些晶體管通過(guò)細(xì)金屬線彼此互聯(lián)。芯片的制造過(guò)程極其復(fù)雜,需要經(jīng)歷數(shù)百個(gè)精確控制的步驟。
雖然只有12年的歷史,但finFET已經(jīng)走到了盡頭。從3nm開(kāi)始,它們將被環(huán)柵 (GAA)取代,預(yù)計(jì)這將對(duì)芯片的設(shè)計(jì)方式產(chǎn)生重大影響。
SoC系統(tǒng)開(kāi)發(fā)人員:FinFET對(duì)你來(lái)說(shuō)意味著什么?
大家都在談?wù)揊inFET——可以說(shuō),這是MOSFET自1960年商用化以來(lái)晶體管最大的變革。幾乎每個(gè)人——除了仍然熱心于全耗盡絕緣體硅薄膜 (FDSOI...
在90納米制程之前,每一代集成電路技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮放不僅帶來(lái)了更高的器件密度,還提升了器件性能。然而,當(dāng)CMOS IC從90納米發(fā)展到65納米節(jié)點(diǎn)時(shí),縮放并...
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶體管結(jié)構(gòu)的選擇如同建筑中的地基設(shè)計(jì),直接決定了芯片的性能上限與能效邊界。當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)推進(jìn)到22nm以下時(shí),傳統(tǒng)平面晶體管已無(wú)法滿足需求...
鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管的原理和優(yōu)勢(shì)
自半導(dǎo)體晶體管問(wèn)世以來(lái),集成電路技術(shù)便在摩爾定律的指引下迅猛發(fā)展。摩爾定律預(yù)言,單位面積上的晶體管數(shù)量每?jī)赡攴环?,而這一進(jìn)步在過(guò)去幾十年里得到了充分驗(yàn)證。
低功耗一直是便攜式電子設(shè)備的關(guān)鍵要求,但近年來(lái),在人工智能、5G、大數(shù)據(jù)中心、汽車等應(yīng)用快速發(fā)展的推動(dòng)下,對(duì)低功耗的需求已經(jīng)擴(kuò)散到更多的終端產(chǎn)品中。
看到這個(gè)題目,可能不少朋友都會(huì)滿臉問(wèn)號(hào),我們知道cell內(nèi)部會(huì)有l(wèi)eakage,難道cell與cell之間也會(huì)有l(wèi)eakage嗎?
2023-12-06 標(biāo)簽:場(chǎng)效應(yīng)管MOS管Layout 2.3k 0
當(dāng)今的可編程邏輯供應(yīng)商必須研究各種工藝選擇,才能滿足采用FPGA的設(shè)計(jì)的各類需求。本文將介紹三類工藝特性,它們與現(xiàn)代FPGA內(nèi)部結(jié)構(gòu)的聯(lián)系,以及FPGA...
使用虛擬實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)預(yù)測(cè)先進(jìn)FinFET技術(shù)的工藝窗口和器件性能
負(fù)載效應(yīng) (loading) 的控制對(duì)良率和器件性能有重大影響,并且它會(huì)隨著 FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)器件工藝的持續(xù)微縮變得越來(lái)越重要[1-2]...
2023-01-06 標(biāo)簽:晶體管FinFET負(fù)載效應(yīng) 2.1k 0
適用于1nm邏輯技術(shù)節(jié)點(diǎn)器件架構(gòu)解析
由于從平面 FET 過(guò)渡到 FinFET,晶體管尺寸減小了,而性能卻提高了。這種轉(zhuǎn)變是必要的,因?yàn)槠矫?FET 的性能在柵極長(zhǎng)度減小時(shí)開(kāi)始下降。FinF...
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