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行芯科技邀您相約CSTIC 2026集成電路科學(xué)技術(shù)大會

行芯PHLEXING ? 來源:行芯PHLEXING ? 2026-03-14 11:18 ? 次閱讀
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集成電路科學(xué)技術(shù)大會(CSTIC)2026將于3月22日-24日在上海浦東嘉里大酒店盛大舉行,與SEMICON China 2026同期舉辦。作為國內(nèi)先進(jìn)工藝Signoff EDA領(lǐng)域的標(biāo)桿企業(yè),行芯科技將于3月23日發(fā)表《Advanced Signoff Solutions for Advanced Systems》主題演講,分享Signoff前沿技術(shù)與實踐成果。誠邀業(yè)界同仁、專家學(xué)者蒞臨現(xiàn)場,共探技術(shù)前沿,共話行業(yè)未來。

大會核心亮點

CSTIC 2026由SEMI與IEEE聯(lián)合主辦,是中國及亞洲極具規(guī)模與權(quán)威性的半導(dǎo)體技術(shù)年度盛會。

大會設(shè)置十大專題研討會,覆蓋半導(dǎo)體制造、器件設(shè)計、集成、材料、設(shè)備等全技術(shù)領(lǐng)域,重點聚焦AI芯片、6G 芯片、神經(jīng)形態(tài)計算、先進(jìn)存儲、3D集成、MEMS技術(shù)等行業(yè)前沿?zé)狳c。

大會優(yōu)秀論文可收錄至IEEE Xplore,是半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)交流、成果發(fā)布與產(chǎn)學(xué)研深度對接的核心平臺。

主題演講

《Advanced Signoff Solutions for Advanced Systems》

演講人:Dr. Runjie Zhang 資深產(chǎn)品總監(jiān)

論壇:Symposium IX: Design and Automation of Circuits and Systems

日期:2026年3月23日(周一)10:55

地點:上海浦東嘉里大酒店3F 3號多功能廳(花木路1388號)

演講概述:本次演講聚焦先進(jìn)工藝下電流功率密度提升、可靠性問題加劇的行業(yè)挑戰(zhàn),系統(tǒng)介紹行芯科技全流程EDA Signoff解決方案及核心產(chǎn)品矩陣,主要會覆蓋RC寄生參數(shù)提取、EMIR分析、電源早期設(shè)計探索三大關(guān)鍵環(huán)節(jié)。GloryEX精準(zhǔn)捕捉復(fù)雜寄生效應(yīng),筑牢簽核數(shù)據(jù)底座;GloryBolt通過通過獨特的DMP并行架構(gòu)、統(tǒng)計無向量分析及機(jī)器學(xué)習(xí)智能優(yōu)選周期技術(shù)實現(xiàn)EMIR分析效率與精度雙提升,高效定位電源網(wǎng)絡(luò)風(fēng)險;GloryGrid可早期評估電源規(guī)劃對EMIR的影響,尤其規(guī)避工藝切換、異構(gòu)集成場景下的收斂瓶頸。演講將結(jié)合實踐,展現(xiàn)行芯方案如何加速設(shè)計收斂破解先進(jìn)工藝芯片簽核難題,為高端芯片研發(fā)提供高效可靠的Signoff技術(shù)支撐。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標(biāo)題:演講預(yù)告|CSTIC 2026,行芯邀您共探先進(jìn)工藝Signoff新解法

文章出處:【微信號:Phlexing,微信公眾號:行芯PHLEXING】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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