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英諾達(dá)榮獲2025年中國IC設(shè)計(jì)成就獎(jiǎng)之年度技術(shù)突破EDA公司獎(jiǎng)

英諾達(dá)EnnoCAD ? 來源:英諾達(dá)EnnoCAD ? 2025-03-28 17:42 ? 次閱讀
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2025年3月27、28日,在上海舉辦的國際集成電路展覽會(huì)暨研討會(huì)(IIC Shanghai 2025)上,本土EDA企業(yè)英諾達(dá)攜其創(chuàng)新技術(shù)成果亮相,并憑借在低功耗設(shè)計(jì)領(lǐng)域的突破性貢獻(xiàn),榮獲“2025年中國IC設(shè)計(jì)成就獎(jiǎng)——年度技術(shù)突破EDA公司獎(jiǎng)”。

算法驅(qū)動(dòng)早期功耗優(yōu)化,ERPE填補(bǔ)國內(nèi)空白

在中國IC領(lǐng)袖峰會(huì)論壇上,英諾達(dá)EDA研發(fā)副總裁李英夢博士發(fā)表了題為《算法驅(qū)動(dòng)早期功耗優(yōu)化——加速后摩爾時(shí)代芯片能效躍遷》的演講,詳細(xì)介紹了國內(nèi)首款RTL功耗優(yōu)化EDA工具——EnFortius凝鋒RPE(ERPE)。該工具通過內(nèi)建核心算法,在設(shè)計(jì)早期階段即可精準(zhǔn)識(shí)別功耗優(yōu)化關(guān)鍵點(diǎn),顯著降低后期迭代成本,助力芯片設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)能效目標(biāo)。

李英夢博士表示:“ERPE的推出標(biāo)志著國產(chǎn)EDA工具在低功耗設(shè)計(jì)領(lǐng)域的重要突破。其核心優(yōu)勢在于將功耗分析與優(yōu)化前移至RTL階段,為設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)提供切實(shí)可行的優(yōu)化建議,從而縮短開發(fā)周期并提升芯片競爭力?!?/p>

今年,英諾達(dá)再度榮登電子工程專輯評(píng)定的TOP 10 EDA公司榜單,并憑借卓越的技術(shù)實(shí)力一舉摘得年度技術(shù)突破EDA公司獎(jiǎng)。ERPE產(chǎn)品的創(chuàng)新突破,源于英諾達(dá)在低功耗與靜態(tài)驗(yàn)證工具領(lǐng)域的持續(xù)深耕,以及40余項(xiàng)發(fā)明專利支撐的核心技術(shù)。公司通過自主研發(fā)的EDA解決方案,為芯片設(shè)計(jì)的左移和能效提升提供關(guān)鍵支持,推動(dòng)國產(chǎn)EDA技術(shù)從“可用”向“好用”躍進(jìn)。

關(guān)于IIC Shanghai

作為國內(nèi)集成電路領(lǐng)域最具影響力的年度盛會(huì)之一,IIC Shanghai聚焦全球半導(dǎo)體技術(shù)趨勢與產(chǎn)業(yè)生態(tài),匯聚產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè),展示尖端產(chǎn)品與解決方案,為行業(yè)搭建交流合作平臺(tái)。

關(guān)于英諾達(dá)

英諾達(dá)(成都)電子科技有限公司是一家由行業(yè)頂尖資深人士創(chuàng)立的本土EDA企業(yè),公司堅(jiān)持以客戶需求為導(dǎo)向,幫助客戶實(shí)現(xiàn)價(jià)值最大化,為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供卓越的EDA解決方案。公司的長期目標(biāo)是通過EDA工具的研發(fā)和上云實(shí)踐,參與國產(chǎn)EDA完整工具鏈布局并探索適合中國國情的工業(yè)軟件上云的路徑與模式,賦能半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。公司的主營業(yè)務(wù)包括:EDA軟件研發(fā)、IC設(shè)計(jì)云解決方案以及IC設(shè)計(jì)服務(wù)。

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原文標(biāo)題:英諾達(dá)榮獲“年度技術(shù)突破EDA公司獎(jiǎng)”,引領(lǐng)后摩爾時(shí)代芯片能效革新

文章出處:【微信號(hào):gh_387c27f737c1,微信公眾號(hào):英諾達(dá)EnnoCAD】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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