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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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助力高級光刻技術:存儲和運輸EUV掩模面臨的挑戰(zhàn)
隨著半導體行業(yè)持續(xù)突破設計尺寸不斷縮小的極限,極紫外 (EUV) 光刻技術的運用逐漸擴展到大規(guī)模生產環(huán)境中。對于 7 納米及更小的高級節(jié)點,EUV 光刻...
光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術。
光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關...
在集成電路的制造過程中,有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因為有了它,我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。現(xiàn)代刻劃技術可以追溯到190年以前,1822年法國人Ni...
微全分析系統(tǒng)的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz與Widmer提出的,當時主要強調了分析系統(tǒng)的微與全,及微管道網絡的MEMS...
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